Циркулятор опалення герметичного типу RX
Короткі деталі
Що таке циркуляційний обігрівач?
Ця машина з постійною температурою та струмом, а також гнучким та регульованим діапазоном температур застосовується в скляних реакторах з оболонкою для високотемпературних та нагрівальних реакцій. Вона є важливим додатковим обладнанням у лабораторіях фармацевтичної, хімічної, харчової, макромолекулярної, нових матеріалів тощо.
| Напруга | 110 В/220 В/380 В, 380 В |
| Вага | 50-150 кг, 50-250 кг |
| Автоматичне оцінювання | Автоматичний |
Опис продукту
● Атрибут продукту
| Модель продукту | RX-05 | RX-10/20/30 | RX-50 | RX-80/100 | RX-150 | RX-200 |
| Діапазон температур (℃) | Кімната Тем-200 | Кімната Тем-200 | Кімната Тем-200 | Кімната Тем-200 | Кімната Тем-200 | Кімната Тем-200 |
| Точність керування (℃) | ±0,5 | ±0,5 | ±0,5 | ±0,5 | ±0,5 | ±0,5 |
| Об'єм за контрольованої температури (л) | 2 | 5.5 | 5.5 | 5.5 | 8 | 8 |
| Потужність (кВт) | 2 | 3.5 | 5 | 7.5 | 9 | 12 |
| Потік насоса (л/хв) | 40 | 40 | 40 | 40 | 40 | 50 |
| Підйом (м) | 20 | 28 | 28 | 28 | 28 | 30 |
| Об'єм підтримки (л) | 5 | 20.10.30 | 50 | 80/100 | 150 | 200 |
| Розмір (мм) | 510 300 600 | 590 420 700 | 590 420 700 | 550 650 900 | 550 650 900 | 550 650 900 |
| Температура герметичного індивідуального типу Rx може досягати 300 ℃ | ||||||
● Характеристики продукту
Інтелектуальна система керування мікрокомп'ютером, швидкий та стабільний нагрів, проста в експлуатації.
Можна використовувати з водою або олією та досягати максимальної температури 200℃.
Подвійне світлодіодне вікно відображає відповідно виміряне значення температури та встановлене значення температури, а сенсорна кнопка проста в експлуатації.
Зовнішній циркуляційний насос має велику швидкість потоку, яка може досягати 15 л/хв.
Головка насоса виготовлена з нержавіючої сталі, стійкої до корозії та довговічної.
Циркуляційний насос холодної води може бути додатково оснащений; з проточною водою, що подається у внутрішню систему, забезпечує зниження температури. Він підходить для контролю температури екзотермічної реакції за високих температур.
Він застосовний для скляних реакторів з оболонкою, хімічних пілотних реакцій, високотемпературної дистиляції та напівпровідникової промисловості.
